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1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐，Z高溫度可達(dá)1500℃，三個溫區(qū)分別用三個獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，每個溫區(qū)都可以設(shè)置30段升降溫程序，并設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)功能，控溫精度高達(dá)±1℃。本機(jī)特別適合于在氣氛保護(hù)或真空環(huán)境下對樣品進(jìn)行退火和燒結(jié)。

1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X加熱元件采用1700℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下，新材料樣品的燒結(jié)或退火。

1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S加熱元件采用1750℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下，新材料樣品的燒結(jié)或退火。

1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ每個加熱區(qū)域長300mm，由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達(dá)1600℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達(dá)1400℃，通過調(diào)節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫度場形成一溫度梯度。本機(jī)可用于CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗或小批量生產(chǎn)，針對電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）等工藝。

1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可達(dá)到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。